Hellma材料CaF2晶體
氟化鈣（CaF2Hellma-Materials的一種經(jīng)過驗證的光學(xué)材料，具有卓越的性能：
寬頻傳輸：在紫外、可見性和紅外頻段的透射率極佳。
低色散：*大限度地減少色差。
對電離輻射的高抵抗：可用于太空。
低非線性折射率：非常適合高功率激光應(yīng)用。
大直徑：對于要求較高的應(yīng)用，*大可達440毫米。
由于起始材料純度高：我們種植大型高純度單晶氟化鈣。
多虧了這些特性，我們的CaF2晶體是下面行業(yè)的選擇：
半導(dǎo)體行業(yè)：微光刻光學(xué)技術(shù)以實現(xiàn)*高精度。
真空技術(shù)：堅固的真空窗適合惡劣環(huán)境。
Hellma氟化鈣的優(yōu)點
特色 價值 優(yōu)勢
低折射率 nd=1.43384 非常適合高功率激光應(yīng)用
低光譜色散 𝜈d=95.23 小化色差
卓越的激光電阻，適用于準(zhǔn)分子激光光學(xué) 193海里，248海里 激光元件的長使用壽命
從深紫外到紅外范圍的高寬頻傳輸 130nm到8μm 紫外、可見光和紅外波段的透射性能極佳
半成品可用尺寸 大可達440毫米 適用于要求高的應(yīng)用
Hellma-Materials半成品的優(yōu)勢：
材料尺寸的靈活性：為您的具體需求量身定制解決方案。
優(yōu)化性能：實現(xiàn)*高的光學(xué)精度和效率。
可靠性：信任經(jīng)過驗證且使用壽命長的材料。
質(zhì)量控制：所有測量技術(shù)均在內(nèi)部進行，包括激光實驗室。
核心光學(xué)特性
高寬帶透射率
覆蓋深紫外（130nm）至紅外（8μm）波段，適用于全光譜光學(xué)系統(tǒng)。
例如：在準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm）中，HellmaCaF₂的透射率遠超傳統(tǒng)材料，成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
低折射率與低色散
折射率（nd）為1.43384，光譜色散（vd）達95.23，顯著減少光學(xué)畸變，提升成像精度。
對比：普通光學(xué)玻璃的色散值通常低于60，HellmaCaF₂在色散控制上具有絕對優(yōu)勢。
激光耐久性
在高能激光環(huán)境下（如193nm準(zhǔn)分子激光），HellmaCaF₂可承受數(shù)億次脈沖照射而不發(fā)生性能衰減，壽命是普通材料的10倍以上。
環(huán)境適應(yīng)性
直徑可達420mm的大尺寸晶體，滿足大型光學(xué)系統(tǒng)需求。
具備高能粒子輻射耐受性，適用于太空探測等極端環(huán)境。
